Simulation numérique d’un essai de nano-indentation sur un matériau de critère de résistance elliptique axisymétrique

Résumé : Cette contribution décrit un procédé itératif à l’aide de modules sécants (compressibilité, cisaillement) afin de déterminer la charge limite d’une structure constituée d’un matériau quelconque respectant un critère de résistance elliptique. La simulation numérique d’un essai d’indentation est mise en oeuvre pour l’indenteur Berkovich. Dans le cadre de l’homogénéisation, plusieurs auteurs ont établi, à l’échelle micrométrique, un domaine de résistance macroscopique sous la forme d’un critère elliptique pour différents matériaux. La détermination des propriétés mécaniques locales des phases constitutives du matériau sollicité avec la technique de nano-indentation rencontre souvent des difficultés à l’échelle très petite (nanométrique). On peut s’affranchir de ces difficultés en confrontant les résultats de la simulation numérique présentée ci-dessus avec ceux des essais expérimentaux à une échelle micrométrique, suivi d’une approche micro-macro convenable.
Type de document :
Communication dans un congrès
The 3rd International Conference CIGOS 2015 - Innovations in construction, 2015, Paris, France
Liste complète des métadonnées

https://hal-enpc.archives-ouvertes.fr/hal-01629620
Contributeur : Camille Chateau <>
Soumis le : lundi 6 novembre 2017 - 15:38:17
Dernière modification le : jeudi 11 janvier 2018 - 06:25:23

Identifiants

  • HAL Id : hal-01629620, version 1

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Citation

Dac Loi Nguyen, Luc Dormieux, Denis Garnier, Camille Chateau. Simulation numérique d’un essai de nano-indentation sur un matériau de critère de résistance elliptique axisymétrique. The 3rd International Conference CIGOS 2015 - Innovations in construction, 2015, Paris, France. 〈hal-01629620〉

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